顶级光刻机售价近12亿元！中国企业能随便买的，是另一种

鹤卷铁工

围绕芯片制造要用到的关键设备——光刻机，一直不缺话题。

比如，一台EUV光刻机卖多少钱？谁买走了这些EUV光刻机？大陆厂商还能买到光刻机吗？为何三星高管最近跑去荷兰拜访ASML总部？
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4 P. H4 w4 n8 H. c6 W9 ]. m- l上面这几个问题，其实可以在ASML和台积电最新发布的三季报及业绩说明会中找到部分答案。两家公司的地位无需多言，前者是全球顶级光刻机龙头，后者是全球芯片制造龙头。

& ?6 d! ^% y6 n. ], q一台售价近12亿元
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关于售价，ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink10月14日介绍公司三季度业绩情况时间接给出了答案。他表示，“我们第三季度的新增订单达到29亿欧元，其中5.95亿欧元来自4台EUV设备。”简单换算一下，一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元，折合人民币高达11.74亿元。
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1 `+ Y" Y. K* b- {5 L8 B; i  e' F图片来源：ASML官网
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9 A; l1 c8 v- N# p7 x4 v5 u这是什么概念？2019年，A股还有1462家上市公司的营业收入低于11.74亿元。换句话说，ASML每年卖一台EUV光刻机，收入就可完胜A股的1/3公司。

售价这么高，ASML根本不愁买家，公司愁的是产能跟不上需求。
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, |/ x! G; W0 I) p! Z% b% a3 h+ \ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻机必不可缺。
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据了解，EUV光刻机不需要多重曝光，一次就能曝出想要的精细图形，没有超纯水和晶圆接触，在产品生产周期、光学邻近效应矫正的复杂程度、工艺控制、良率等方面都有明显优势。

( k  v& h* p$ N0 o# e& OASML的EUV光刻机也在推陈出新。公司10月14日还公布了EUV路线图上的新机型TWINSCANNXE:3600D的最终规格，曝光速度达到每小时曝光160片晶圆，提高了18%的生产效率，计划于2021年的中期开始发货。
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; W% t9 f( M) rASML三季度净销售额为40亿欧元，预计四季度的销售额将在36亿欧元到38亿欧元之间，毛利率约50%。“2021年，由于宏观环境的不确定因素，包括疫情给经济带来的影响，以及地缘政治的变化，我们预期业绩增长将是低双位数。尽管如此，终端市场驱动因素的变化（比如5G、人工智能和高性能计算），将推动先进制程的逻辑芯片和存储芯片的市场需求，这都需要使用到先进的光刻机。” Peter Wennink说。

! A4 q% c0 z) v芯片大厂争购
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. A( Y0 p! j6 {8 n; O& NASML的EUV光刻机在2016年正式上市，主要供应给英特尔、台积电和三星这三家大客户。其EUV光刻机出货量一直在增加，从2016年的5台上升到2019年的26台。
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/ k2 Y- b0 H( q5 p% ~% n" `目前，台积电已将可量产的工艺推到5nm，大幅领先英特尔和三星；同时，按照计划，公司3nm工艺将在明年试产，2022年下半年正式量产。重要的是，客户对其7nm工艺和5nm工艺的需求十分强劲，这两项工艺的收入占比在三季度已达43%。因此，台积电对EUV光刻机的需求无疑也是最强劲的。
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图片来源：台积电三季报

/ h' K. W8 J7 @4 b1 z近期有媒体报道，由于先进工艺推进顺利和订单扩大，台积电将加大EUV光刻机的采购力度，预计到2021年底采购量至55台左右。台积电方面回复中国证券报记者采访时表示，公司不评论市场传闻。前述媒体援引半导体供应链消息称，台积电采购的EUV光刻机已经超过30台，三星累计采购的EUV光刻机不到20台。
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# ~7 R$ s5 Y' H* S5 ~  Z! h值得注意的是，ASML的财报显示，三季度来自中国台湾地区贡献的收入占比为47%，环比提高了26个百分点。业界认为，这主要是由台积电采购EUV光刻机带来。

与此同时，ASML来自韩国的收入占比出现下降，从二季度的38%下降到三季度的26%。有报道称，三星电子副董事长李在镕近日飞赴ASML荷兰总部会晤，双方探讨的核心是EUV光刻机的供应和装配(5nm)，同时就面向AI等领域的下一代光刻机研发合作交换了意见。
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/ M) w3 a! N# J) Z$ X% t9 c当然，ASML光刻机的买家还有大陆厂商，但购买EUV光刻机存在阻力，而购买DUV光刻机无碍。Peter Wennink表示，“根据当前法规，ASML无需获得美国出口许可证便可以继续从荷兰向中国客户出货DUV光刻系统；对于直接从美国发货系统或零件到受法规影响的客户，ASML需获得许可证。”

4 b  r  p! s/ i) h9 iEUV光刻机和DUV光刻机有什么不同？
7 H# G- F9 }, e+ s6 f9 S' C
+ D, h$ ]( F8 }! S8 ~( H根据曝光源的不同，光刻机分为EUV型（极深紫外线）、DUV型（深紫外线）。从制程范围来看，DUV基本上只能做到25nm，而EUV能满足10nm以下的晶圆制造需求。